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Intel adota a litografia EUV de alta NA de próxima geração da ASML para a produção do Panther Lake

2026-07-15 05:12:29

INTC-4,44%

ASML2,96%

De acordo com a ASML, a Intel começou a usar o novo equipamento de litografia EUV de alta abertura numérica (High NA) da ASML para produzir processadores de notebook Panther Lake na terça-feira (15 de julho). A mudança segue testes experimentais iniciados em 2024, com a Intel agora implantando a ferramenta avançada em produção em escala total para melhorar a eficiência da fabricação.

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