三星、SK 海力士因霍爾木茲海峽中斷導致萘芴短缺而面臨晶片供應風險

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Gate News 消息,4月24日——日本光阻(photoresist)供應商已警告三星電子與 SK 海力士,指在3月初霍爾木茲海峽(Strait of Hormuz)實質性關閉之後,可能出現原材料供應中斷。風險源自更趨緊縮的萘芴(naphtha)供應;這是一種由油基原料製成、用於生產光阻所需特用化學品的原料,屬於晶片製造中的關鍵材料。

在海峽關閉後,日本萘芴的現貨價格飆升近 92%,至每噸 $1,190,迫使日本12座萘芴裂解中心中的6座下調產量。供應壓力對丙烯二醇甲醚(propylene glycol methyl ether)(PGME) 與丙烯二醇甲醚乙酸酯(propylene glycol methyl ether acetate)(PGMEA) 等溶劑尤為嚴峻。日本掌控全球光阻市場超過 70%,使半導體產業受到的衝擊被進一步放大。使用極紫外線(extreme ultraviolet)(EUV) 光刻所製造的先進晶片,因製程中的材料容差更嚴格,面臨的限制最為緊迫。

這個瓶頸凸顯了日本工業供應鏈的脆弱性。化學品供應商通常依賴國內原料來源,難以快速找到替代方案。晶片製造商若要替換任何原材料,必須進行長達一年的重新認證流程,導致短期解決方案的空間極其有限,尤其是在用於最先進生產線的情況下。

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