Intel áp dụng công nghệ quang khắc EUV độ phân giải cao thế hệ tiếp theo High NA của ASML cho sản xuất Panther Lake

INTC-4,44%
ASML2,96%
Theo ASML, Intel đã bắt đầu sử dụng thiết bị khắc quang EUV High Numerical Aperture (High NA) thế hệ tiếp theo của ASML để sản xuất bộ xử lý cho máy tính xách tay Panther Lake vào thứ Ba (ngày 15 tháng 7). Động thái này nối tiếp các đợt thử nghiệm thí điểm bắt đầu từ năm 2024, với việc Intel hiện triển khai công cụ tiên tiến trong sản xuất quy mô lớn nhằm nâng cao hiệu quả sản xuất.
Tuyên bố miễn trừ trách nhiệm: Thông tin trên trang này có thể đến từ các nguồn bên thứ ba và chỉ mang tính chất tham khảo. Thông tin này không phản ánh quan điểm hoặc ý kiến của Gate và không cấu thành bất kỳ lời khuyên tài chính, đầu tư hoặc pháp lý nào. Giao dịch tài sản ảo tiềm ẩn rủi ro cao. Vui lòng không chỉ dựa vào thông tin trên trang này khi đưa ra quyết định. Để biết thêm chi tiết, vui lòng xem Tuyên bố miễn trừ trách nhiệm.
Bình luận
0/400
Không có bình luận