ZKNox réduit le coût de vérification des signatures Falcon résistantes aux attaques quantiques par 12 fois ; les portefeuilles matériels devraient permettre un accès abordable à un système résistant aux attaques quantiques

Actualités Gate News : le 2 avril, Nicolas Bacca (btchip), fondateur de l’institut de recherche ZKNox soutenu par la Fondation Ethereum, ancien cofondateur de Ledger et directeur technique en chef, a présenté lors de la conférence EthCC[9] les avancées techniques d’une intégration profonde entre les portefeuilles matériels et Ethereum. Il a indiqué qu’en raison du fait que l’EVM natif ne prend pas en charge certaines signatures cryptographiques efficaces et des logiques de validation complexes, les portefeuilles matériels ont eu, pendant longtemps, du mal à être parfaitement compatibles avec les fonctionnalités avancées permises par l’abstraction de compte. ZKNox a réduit le coût de validation en chaîne du schéma de signatures Falcon résistant à la cryptographie quantique, le faisant passer de 24 millions de Gas à 2 millions de Gas, soit environ 12 fois plus d’efficacité, permettant ainsi aux utilisateurs de générer des signatures post-quantiques sécurisées via un portefeuille matériel avec des coûts de transaction proches de ceux des transactions ordinaires. ZKNox développe également un SDK standardisé, visant à assurer une compatibilité transparente des portefeuilles matériels avec des fonctionnalités d’abstraction de compte telles que la récupération sociale, les signatures multiples et la gestion complexe des autorisations, tout en explorant la génération de preuves à divulgation nulle sur l’appareil matériel, afin de vérifier la validité des signatures côté chaîne sans exposer d’informations sensibles. Nicolas a déclaré que l’objectif de ZKNox est d’établir des standards de sécurité du matériel ouverts et que les portefeuilles matériels deviendront des signataires universels d’identités numériques résistantes à la cryptographie quantique, pour traverser les scénarios d’applications et les L2.