Applied Materials у понеділок (15 червня) представила дві нові системи, призначені для подолання проблем точного виробництва у високовідношених (high aspect ratio) 3D-структурах для передової логіки та чіпів пам’яті.
Системи Centris Spectral SiN ALD і Producer Selectra Mo Etch націлені відповідно на осадження діелектричних тонких плівок і вибіркове видалення металу. Як зазначає компанія, обидві системи вже перебувають у масовому виробництві та використовуються провідними виробниками логічних і чіпів пам’яті для передових вузлів. Акції зросли на 3,27% до $585,78, встановивши новий історичний максимум.