Applied Materials представила в понедельник (15 июня) две новые системы, предназначенные для решения проблем прецизионного производства при создании 3D-структур с высокой степенью соотношения сторон для передовой логики и чипов памяти.
Системы Centris Spectral SiN ALD и Producer Selectra Mo Etch нацелены соответственно на осаждение тонких диэлектрических пленок и селективное удаление металла. Как заявляет компания, обе системы уже используются в массовом производстве ведущими производителями логических и чипов памяти для передовых узлов. Акции выросли на 3,27% до $585,78, обновив исторический максимум.