# 国内光刻機の量産が美株
#DUV に与える衝撃は、今日の世界の半導体製造の主力装置である。28nm、14nmなどを生産でき、EUVは最先端プロセスの発展方向を示し、主に5nm、3nm、2nmなどの先端プロセスに用いられる。DUVがなければ、ほとんどのチップの大規模生産を支えることは難しく、EUVがなければ、先端プロセスの競争で主導的な地位を占めるのも難しい。
国際的な先進水準にはまだ差があるが、近年は国産半導体が継続的に突破している。追いかけから並走へ、そして将来さらに多くの独自イノベーションを実現するまで、すべての段階には時間、投資、そして忍耐が必要だ。引き続き頑張って、中国の半導体が絶えず突破していくことを期待している。
#夏日创作营 
