23 avril, la commission des affaires étrangères de la Chambre des représentants américaine a adopté la loi MATCH, intensifiant la guerre des puces contre la Chine

- MATCH : Loi de coordination multilatérale sur le contrôle des technologies matérielles
- Objectif principal : passer de "je ne vends pas à la Chine" à "forcer tous les alliés à ne pas vendre à la Chine".
Trois mesures :
- Interdire les équipements : interdiction totale de vente en Chine de machines de lithographie DUV, de machines d’attaque à basse température et autres équipements clés de fabrication de semi-conducteurs, y compris la maintenance, les mises à jour logicielles et le remplacement de pièces.
- Nommer cinq entreprises : SMIC, Huawei, Yangtze Memory, Hefei Changxin, Hua Hong Semiconductor et leurs filiales incluses dans la liste des "installations sous contrôle", équivalent à une version étendue de la liste des entités, avec interruption de toute fourniture d’équipements neufs ou anciens.
- Forcer les alliés à prendre position : exiger des pays comme les Pays-Bas, le Japon, etc., qu’ils alignent leurs contrôles à l’exportation de semi-conducteurs vers la Chine avec ceux des États-Unis dans un délai de 150 jours. En cas de non-coopération, recours à la "règle des produits étrangers directs" — toute utilisation de technologie, logiciel ou pièce américaine est soumise au contrôle américain.
Quelles étapes restent à suivre pour la mise en œuvre :
- Vote en plénière à la Chambre des représentants (le comité a déjà approuvé, reste le vote en séance plénière)
- Adoption par le Sénat d’un projet de loi complémentaire (une version complémentaire existe déjà au Sénat, susceptible d’être intégrée en tant qu’amendement dans la loi de financement de la défense NDAA)
- Harmonisation des textes entre les deux chambres (si des différences existent, négociation nécessaire)
- Signature du président pour entrer en vigueur
- Probabilité de mise en œuvre : deuxième moitié de 2026
Principaux promoteurs :
Micron, craignant que la Chine ne domine le stockage de données comme elle domine l’énergie solaire.
Impacts :
- ASML en première ligne, la Chine représentant environ 36 % de ses revenus
- Tokyo Electron, Lam Research, Applied Materials, KLA en lobbying contre
- La disponibilité des équipements DUV pour la fabrication de 28 nm en Chine est fortement réduite, les équipements existants tombent en panne sans réparation, accélérant la substitution nationale